{"id":810,"date":"2025-12-09T13:16:30","date_gmt":"2025-12-09T05:16:30","guid":{"rendered":"https:\/\/jeez-semicon.com\/?p=810"},"modified":"2025-12-16T11:43:32","modified_gmt":"2025-12-16T03:43:32","slug":"silicon-carbide-wafer-polishing-slurry","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/application\/silicon-carbide-wafer-polishing-slurry\/","title":{"rendered":"Siliziumkarbid-Wafer-Polierschl\u00e4mme"},"content":{"rendered":"

Die Siliziumkarbid-Feinpolierschl\u00e4mme von Gizhil Electronic eignet sich f\u00fcr die Oberfl\u00e4chenplanarisierung von SiC-Siliziumkarbid-Wafersubstraten bei der Pr\u00e4zisionsbearbeitung. Die f\u00fcr das Polieren von Wafern verwendete Aufschl\u00e4mmung weist eine hohe Poliereffizienz und eine geringe Oberfl\u00e4chenrauhigkeit auf. Nach dem Polieren mit der SiC-Substrat-Polierfl\u00fcssigkeit von Gizhil Electronic ist die Wafer-Oberfl\u00e4che frei von Defekten wie Kratzern und Tr\u00fcbungen und gew\u00e4hrleistet eine hervorragende Ebenheit der Siliziumkarbid-Wafer. Die von Gizhil Electronic entwickelte Siliziumkarbid-Polierfl\u00fcssigkeit bietet ein hohes Verd\u00fcnnungsverh\u00e4ltnis und eine einfache Reinigung nach dem Polieren, wodurch sie bei der Herstellung von Substraten f\u00fcr integrierte Halbleiterschaltungen weit verbreitet ist.<\/p>\n

Der SiC-Slurry von Gizhil Electronic f\u00fcr das Polieren von Wafern zeichnet sich durch hervorragende Flie\u00dff\u00e4higkeit und Dispergierbarkeit aus und bietet zudem Vorteile wie Kristallisationsbest\u00e4ndigkeit, einfache Reinigung und hohe Poliereffizienz. Sie erf\u00fcllt die Anforderungen an das Feinpolieren von Siliziumkarbid-Wafern und kann auch als chemisch-mechanische Poliersuspension f\u00fcr Siliziumwafer (Si-Wafer) auf der Grundlage kundenspezifischer Prozesse angepasst werden.<\/p>\n

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Gizhil Electronic’s silicon carbide fine polishing slurry is suitable for the surface planarization of SiC silicon carbide wafer substrates during precision machining. The slurry used for wafer polishing exhibits high …<\/p>","protected":false},"author":1,"featured_media":990,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"footnotes":""},"categories":[8],"tags":[],"class_list":["post-810","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-application"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/810","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=810"}],"version-history":[{"count":1,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/810\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":815,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/810\/revisions\/815"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/990"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=810"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=810"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=810"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}