{"id":1279,"date":"2026-01-08T09:53:47","date_gmt":"2026-01-08T01:53:47","guid":{"rendered":"https:\/\/jeez-semicon.com\/?post_type=semiconductor&p=1279"},"modified":"2026-01-08T14:22:01","modified_gmt":"2026-01-08T06:22:01","slug":"oxide-slurry","status":"publish","type":"semiconductor","link":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/semiconductor\/oxide-slurry\/","title":{"rendered":"Boue d'oxyde"},"content":{"rendered":"

Fonction de la boue de polissage d'oxyde<\/strong><\/h2>\n\n\n\n

Largement utilis\u00e9 pour le polissage CMP des mat\u00e9riaux oxyd\u00e9s afin d'obtenir une planarisation pr\u00e9cise de la surface et un contr\u00f4le de l'\u00e9paisseur,
comme les couches d'oxyde de silicium sur les surfaces des wafers ou les couches d'oxyde entre les couches m\u00e9talliques sup\u00e9rieures et l'oxyde de silicium. Il convient au polissage de l'oxyde des plaquettes rev\u00eatues d'oxyde de silicium de 4 \u00e0 12 pouces.<\/p>\n\n\n\n

La boue d'oxyde utilise de la silice collo\u00efdale SiO\u2082 soigneusement s\u00e9lectionn\u00e9e avec une taille de particule uniforme comme abrasif, ce qui permet d'obtenir des r\u00e9sultats de polissage avec une faible rugosit\u00e9 de surface et un r\u00e9sidu de particule minimal.<\/p>\n\n\n\n

En optimisant le taux de dilution pendant l'utilisation, les clients peuvent obtenir des performances de polissage optimales. Compar\u00e9 \u00e0 des produits similaires au niveau national et international, ce produit se caract\u00e9rise par un nettoyage facile et une faible rugosit\u00e9 de surface.<\/p>\n\n\n\n

Caract\u00e9ristiques du produit<\/strong><\/h2>\n\n\n\n

Abrasifs SiO2 de qualit\u00e9 nanom\u00e9trique avec une taille de particule uniforme et stable, un taux d'enl\u00e8vement stable et une faible teneur en ions m\u00e9talliques. Le processus CMP permet d'\u00e9liminer efficacement la couche d'oxyde superficielle et d'obtenir une plan\u00e9it\u00e9 id\u00e9ale.<\/p>\n\n\n\n

Par rapport \u00e0 des produits similaires, tant au niveau national qu'international, la boue d'oxyde \u00e9lectronique de JIZHI se caract\u00e9rise par un nettoyage facile et une faible rugosit\u00e9 de surface.<\/p>\n\n\n

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Comparaison de la s\u00e9lectivit\u00e9<\/strong><\/h2>\n\n\n
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Caract\u00e9ristiques du liquide de polissage \u00e0 base de boue d'oxyde :<\/strong><\/h2>\n\n\n\n

1. taux de polissage \u00e9lev\u00e9
2. s\u00e9lection d'un rapport de 1:1 entre le S et l'oxyde
3. faible teneur en particules m\u00e9talliques
(La teneur totale en m\u00e9tal est comparable \u00e0 celle des produits import\u00e9s)<\/p>\n\n\n\n

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Objet<\/th>\n Param\u00e8tres<\/th>\n <\/tr>\n <\/thead>\n
Machine<\/td>\n Hwatsing<\/td>\n <\/tr>\n
Plaquette de test<\/td>\n 6 heures<\/td>\n <\/tr>\n
Mat\u00e9riau<\/td>\n PSG rempli de Si<\/td>\n <\/tr>\n
Ra (nm)<\/td>\n 0.26<\/td>\n <\/tr>\n
R.R (A\/min)<\/td>\n 5523<\/td>\n <\/tr>\n
Gamme (A)<\/td>\n 6%<\/td>\n <\/tr>\n
La p\u00eache<\/td>\n -100 \u00e0 200<\/td>\n <\/tr>\n <\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n\n\n\n
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La rugosit\u00e9 de surface Ra apr\u00e8s CMP est de 0,3 nm, ce qui est conforme \u00e0 la norme.<\/strong><\/h2>\n\n\n\n

<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Function of Oxide Polishing Slurry Widely used for CMP polishing of oxide materials to achieve precise surface planarization and thickness control,such as silicon oxide layers on wafer surfaces or oxide …<\/p>","protected":false},"featured_media":1294,"template":"","categories":[],"tags":[],"semicategories":[50],"class_list":["post-1279","semiconductor","type-semiconductor","status-publish","has-post-thumbnail","hentry","semicategories-polishing_slurry"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/semiconductor\/1279","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/semiconductor"}],"about":[{"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/types\/semiconductor"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/media\/1294"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1279"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=1279"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=1279"},{"taxonomy":"semicategories","embeddable":true,"href":"https:\/\/jeez-semicon.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/semicategories?post=1279"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}