窒化ガリウム(GaN)のような第3世代の半導体材料を加工する場合、仕上げパッドにはどのような特別な特性が求められますか?
つの特別な条件を満たさなければならない:
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低ストレス研磨:マイクロクラックを防ぐには、基板の弾性率がGaNの脆性(破壊靭性<2MPa・m¹/²)に適合している必要がある。
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強アルカリ環境に対する耐性:PTFE変性ポリウレタンにより、pH12以上のKOHベースのスラリーで200時間以上の安定した運転が可能。
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熱管理の強化:熱伝導率>0.5W/m・K:局所的な摩擦熱を素早く放散(GaNは温度に敏感)
ジジ・エレクトロニクスの’ GaN専用パッドシリーズ は、6インチウェーハの量産において、反り制御<50μmで検証されている。.