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我们的
产品

精密切割刀片、无蜡抛光垫和 CMP
为稳定和高产半导体设计的浆料
进程。.

关于
美国

1997

先进的抛光浆料 - 高性能抛光片 - 半导体级切割刀片
为晶圆制造、光学元件和精密材料加工提供工程解决方案。.

company

100+

员工

24h

高效响应

28 年

行业经验

1500+

客户

25 年专注,抛光行业的领导者

我们的
技术优势

先进的制造工艺和严格的质量控制确保
在要求苛刻的应用中保持稳定的性能。.


抛光率

切割性能强,提高抛光效率

良好
抛光效果

分散性好,乳液均匀,可提高抛光精度

安全与
环境保护

不含硫、磷和氯添加剂,性能稳定,无环境污染


应用范围

适用于金属、光电子、半导体、硬盘、显示器、陶瓷及相关行业

我们的
解决方案

针对切割、抛光和 CMP 应用的解决方案
不同材料的加工过程。.

  • Schematic diagram of CMP polishing workbench

    CMP(化学机械抛光)是目前现代工业制造中唯一用于集成电路制造中工件表面抛光和晶片表面整体平面化的技术。CMP 工艺通过化学和机械作用实现表面抛光。它广泛应用于集成电路技术、晶圆芯片平面化、航空航天材料、金属工业以及光电行业材料的镜面抛光。吉之岛电子 CMP 抛光工艺示意图 根据被抛光材料的类型,CMP 可分为三大类: (1) 基质:主要是硅材料。(2) 金属:包括铝/铜金属互连 ...

我们的
生产设备

专业生产设备支持高精度
生产和可靠的产品一致性。.

我们的
新闻

来自以下方面的产品更新、技术见解和行业新闻
半导体切割和抛光。.

  • 常见问题(FAQ)

如何评估抛光垫的使用寿命?需要更换的警示指标是什么?2025-12-12T16:51:06+08:00

寿命评估需要对以下指标进行全面监测:

监测指标 正常范围 更换警告
表面孔隙率变化 初始值 ± 5% > ± 15%
弹性恢复率 > 92% < 85%
摩擦系数稳定性 波动 < ± 0.02 波动 > ± 0.05
泥浆消耗率 基线 ± 10% 增加 > 25%

智能监控解决方案:我们提供可选的嵌入式传感器垫,可将实时压力/温度数据传输到客户的 MES 系统。建议每 500 次抛光后进行专业的表面形貌分析。.

在加工氮化镓 (GaN) 等第三代半导体材料时,光饰垫需要具备哪些特殊性能?2025-12-12T16:43:41+08:00

必须满足三个特殊要求:

  • 低应力抛光:弹性基底模量必须与氮化镓的脆性(断裂韧性 < 2 MPa-m¹/²)相匹配,以防止出现微裂纹

  • 耐强碱性环境:聚四氟乙烯改性聚氨酯可在 pH 值大于 12 的 KOH 基泥浆中稳定运行 > 200 小时

  • 强化热管理:导热系数 > 0.5 W/m-K,用于快速消散局部摩擦热(氮化镓对温度敏感)
    集智电子’ GaN 专用焊盘系列 已在 6 英寸晶圆批量生产中得到验证,翘曲控制 < 50 µm。.

使用你们的抛光垫后,如何量化抛光均匀性的改善?2025-12-12T16:42:31+08:00

改进可以通过三个关键指标来量化:

  1. TTV 改进:专有的多孔弹性层设计可将晶片总厚度变化控制在 < 0.3 µm(与传统焊盘相比提高了 40%)

  2. 去除率均匀性:微通道技术将晶圆内不均匀度 (WIWNU) 提高到 > 95%

  3. 缺陷控制:柔性纤维表面结构可将划痕缺陷密度降至 < 0.05 计数/平方厘米
    我们提供 免费流程审计服务 为客户提供基准比较报告。.

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