客户设计的玉石腕表散发着高雅精致的气质，体现了玉石的高贵品格。和田玉表盘的粗糙表面去除和抛光是通过 CMP（化学机械抛光）技术实现的。.
结合使用 Gizhil Electronic 的 CMP 抛光浆料和抛光垫，可消除原料表面不平整的划痕，恢复玉石的天然光泽和固有质地。抛光后，表盘工件显得致密、光滑，并呈现出蜡状油脂质感。使用 CMP 抛光技术抛光玉器的优点包括：快速减薄厚度、抛光效率高、光亮度特别好、对玉器的损伤最小、适合批量抛光以及降低手工抛光成本。.
Gizhil Electronic 的 CMP 玉石抛光浆的抛光过程和效果如下：
