logo

О semiconductor

Этот автор еще не указал никаких подробностей.
На данный момент semiconductor создал 119 записей в блоге.

Шлам для полировки полупроводников - керамическая медно-гладкая подложка DPC Polishing Slurry / DBC Grinding Fluid

Gizhil Electronic's ceramic copper-clad substrate grinding fluid / DPC polishing slurry / DBC grinding fluid typically involves two processes: coarse polishing and fine polishing. Depending on the customer's requirements for ...

Полировка металлического шлама-CMP полировка возвратных пластин гидравлических компонентов / пластин с девятью отверстиями

Силовые компоненты гидравлических систем приводятся в действие двигателями или моторами, которые забирают масло из гидравлического бака, вырабатывают масло под давлением и подают его к исполнительным механизмам. Гидравлические насосы ...

Шлифовка и полировка сапфировых пластин

Целью полировки сапфировых пластин является уменьшение конечной толщины подложки до желаемого целевого значения, достижение TTV (Total Thickness Variation) лучше, чем ±2 ...

Шламы для полировки алюминиевых сплавов - зеркальная полировка алюминиевых заготовок

Алюминиевый сплав относительно мягкий и имеет низкую твердость, что делает его очень восприимчивым к механическим повреждениям, таким как царапины и потертости во время обработки, а также к коррозии и плохому химическому ...

Шлам для полировки пластин из карбида кремния

Gizhil Electronic's silicon carbide fine polishing slurry is suitable for the surface planarization of SiC silicon carbide wafer substrates during precision machining. The slurry used for wafer polishing exhibits high ...

Полировка твердых сплавов - зеркальная полировка лезвий из вольфрамовой стали

Hard alloy blades possess a series of excellent properties, including high hardness, good toughness, heat resistance, and corrosion resistance. Particularly, their high hardness and wear resistance allow them to maintain ...

Процесс полировки карбида кремния (SiC)

Depending on the specific semiconductor industry processes, CMP (Chemical Mechanical Polishing) slurries can be categorized into dielectric layer CMP slurries, barrier layer CMP slurries, copper CMP slurries, silicon CMP slurries, ...

Анализ основных процессов полировки и притирки подложек InP (фосфида индия)

Indium Phosphide (InP), as a core material of the third-generation semiconductor, holds an irreplaceable position in high-end fields such as optical communications, millimeter-wave radar, and quantum communications due to its ...

Поверхностная революция“ в производстве полупроводников: Техническая сущность и фундаментальная ценность полировки кремниевых пластин

In the precision manufacturing chain of the semiconductor industry, the creation of every high-performance chip relies on hundreds of process steps, from silicon purification to chip packaging. Among these, silicon ...

Преодоление высокой стоимости и медленного отклика G804W

As the third-generation semiconductor industry accelerates its iteration today, silicon carbide (SiC), as a core material, is reshaping the technological landscape of high-end manufacturing fields such as new energy vehicle ...

Перейти к началу