Nos applications

Les cristaux de saphir possèdent une excellente stabilité optique, mécanique et chimique, ainsi qu'une solidité, une dureté et une résistance à l'érosion élevées. Ils peuvent fonctionner dans des conditions difficiles à des températures avoisinant les 2000°C. Le saphir est principalement utilisé dans les substrats de LED, les lentilles de montres et est largement appliqué dans les dispositifs militaires infrarouges, la technologie spatiale des satellites et comme matériaux de fenêtre pour les lasers à haute intensité. Il constitue un substrat idéal pour les applications pratiques des semi-conducteurs telles que les diodes électroluminescentes (DEL) GaN/Al₂O₃, les circuits intégrés à grande échelle (SOI et SOS) et les films minces à nanostructures guidées. Actuellement, les boues de polissage et les fluides de broyage du saphir en Chine dépendent encore largement des importations. Après des années de ...

Il s'agit d'une feuille de céramique d'alumine nécessitant une finition miroir. Habituellement, le polissage des céramiques d'alumine implique un meulage grossier avec un disque de fer suivi d'un polissage avec un chiffon blanc, mais cette méthode est extrêmement lente - il faut souvent 30 à 40 minutes avec le chiffon blanc pour obtenir la surface miroir souhaitée. Cette méthode est inacceptable pour le traitement par lots. Il existe une autre méthode : après un meulage grossier avec un disque de fer, on utilise directement un disque d'étain pour le polissage du miroir. Toutefois, cette approche présente également des inconvénients, notamment le coût de traitement élevé des disques d'étain, ce qui rend difficile la production en série. D'une manière générale, le traitement des feuilles de céramique d'alumine présente certains ...

Garantir la brillance de la surface et les angles droits est un défi majeur dans le polissage de l'acier au tungstène. L'acier au tungstène est principalement utilisé pour les outils et les lames de coupe, de sorte que le tranchant de ses arêtes a un impact direct sur la qualité du produit. La brillance de la surface permet également de maintenir la perpendicularité du produit. Lors du polissage d'outils en acier au tungstène, il ne faut pas utiliser de roues en tissu ou de disques de polissage doux. Seuls des tampons de polissage d'une dureté appropriée peuvent garantir des angles droits plus nets.

Le logo Apple est très tactile et son effet miroir étincelant met en valeur le charme et l'esthétique de la marque Apple. La création d'un logo Apple parfait nécessite un polissage à l'aide de la technologie de polissage mécanique chimique (CMP). Le processus CMP permet d'obtenir une surface plus lisse et une efficacité plus stable, ce qui garantit un taux de rendement élevé tout en améliorant l'image de la marque. Le logo Apple est fabriqué en alliage d'aluminium 6063 ou en acier inoxydable. Il est d'abord découpé par CNC pour obtenir la forme du logo, puis poli à l'aide d'une machine de polissage de surface. Les tampons de polissage grossier en composite et la boue de polissage CMP sont utilisés pour le polissage grossier et le nivellement, ...

Une montre-bracelet en jade conçue par un client respire l'élégance et la sophistication, incarnant le caractère noble du jade. L'enlèvement de la surface rugueuse et le polissage du cadran en jade Hetian sont réalisés grâce à la technologie CMP (Chemical Mechanical Polishing). Grâce à l'application combinée de la boue de polissage CMP et des tampons de polissage de Gizhil Electronic, les rayures irrégulières sur la surface du matériau brut sont éliminées, ce qui rétablit l'éclat naturel et la texture inhérente du jade. Après le polissage, la pièce de cadran apparaît dense, lisse et présente une texture cireuse et huileuse. Les avantages de l'utilisation de la CMP pour le polissage du jade sont les suivants : réduction rapide de l'épaisseur, efficacité élevée du polissage, brillance exceptionnelle, ...

Le liquide de prépolissage des substrats en cuivre-cuivre de Gizhil Electronic / la suspension de polissage DPC / le liquide de prépolissage DBC impliquent généralement deux processus : le polissage grossier et le polissage fin. En fonction des exigences du client en matière de polissage de la pièce et de rugosité de la surface, différents fluides de prépolissage DPC ou boues de polissage fin sont sélectionnés. Le processus de polissage grossier pour les substrats DPC/DBC revêtus de cuivre céramique se concentre principalement sur la réduction rapide de l'épaisseur et l'amélioration de l'efficacité du polissage. Pour les substrats DPC nécessitant une qualité supérieure, une étape secondaire de polissage fin est nécessaire pour éliminer les défauts et imperfections de surface. Après l'utilisation du fluide de meulage / de la boue de polissage fin pour substrats en cuivre céramique de Gizhil Electronic, la rugosité de surface (Ra) ...

Les composants de puissance des systèmes hydrauliques sont entraînés par des moteurs qui prélèvent de l'huile dans le réservoir hydraulique, génèrent de l'huile sous pression et l'acheminent vers les actionneurs. Les pompes hydrauliques sont classées par structure en pompes à engrenages, pompes à piston, pompes à palettes et pompes à vis. Les accessoires des pompes hydrauliques comprennent les plaques d'orifice, les plaques de retour, les têtes variables, les arbres d'entraînement, les patins de piston, etc. Ces pièces hydrauliques moulées doivent être traitées au moyen de la technologie CMP (Chemical Mechanical Polishing), qui utilise des tampons de polissage et des boues de polissage pour obtenir une surface métallique plane et lisse, exempte de bavures et de marques de coupe. Ce processus réduit l'usure après l'assemblage des composants, diminue le bruit et ...

Le polissage des plaquettes de saphir a pour but de réduire l'épaisseur finale du substrat à la valeur cible souhaitée, en obtenant une TTV (variation totale de l'épaisseur) meilleure que ±2 μm et une rugosité de surface inférieure à 2 nm. Ces exigences opérationnelles requièrent des machines et des processus d'une grande précision, d'une grande efficacité et d'une grande stabilité. L'utilisation de la suspension de polissage du saphir et des tampons de polissage de Gizhil Electronic pour le prépolissage et le polissage CMP (Chemical Mechanical Polishing) permet la réalisation de ce processus. En utilisant les techniques de polissage CMP, les pièces en saphir peuvent atteindre la rugosité de surface souhaitée. Chaque plaquette de saphir polie subit un enlèvement de matière uniforme au cours du traitement, ce qui garantit ...

L'alliage d'aluminium est relativement souple et présente une faible dureté, ce qui le rend très sensible aux dommages mécaniques tels que les rayures et les abrasions pendant le traitement, ainsi qu'à la corrosion et à la mauvaise stabilité chimique de la surface. Pour éliminer les défauts du processus d'usinage, la méthode CMP (Chemical Mechanical Polishing) est couramment employée pour obtenir une excellente surface lisse. Avec les progrès des processus de haute technologie, la suspension de polissage des alliages d'aluminium de Gizhil Electronic offre désormais un support technique mature, permettant une planarisation ultra-précise et presque sans défaut des matériaux polis par CMP. La CMP permet véritablement une planarisation globale des substrats en alliage d'aluminium, offrant des surfaces presque parfaites avec une rugosité extrêmement faible tout en améliorant de manière significative la qualité de la surface...