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  • 2025年12月9日
    Catégories : Application

    Silicon Carbide Wafer Polishing Slurry

    Gizhil Electronic’s silicon carbide fine polishing slurry is suitable for the surface planarization of SiC silicon carbide wafer substrates during precision machining. The slurry used for wafer polishing exhibits high ...

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  • 2025年12月9日
    Catégories : Application

    Hard Alloy Polishing Slurry—Mirror Polishing of Tungsten Steel Blades

    Hard alloy blades possess a series of excellent properties, including high hardness, good toughness, heat resistance, and corrosion resistance. Particularly, their high hardness and wear resistance allow them to maintain ...

    Voir plus >

  • 2025年12月9日
    Catégories : Application

    Silicon Carbide (SiC) Polishing Process

    Depending on the specific semiconductor industry processes, CMP (Chemical Mechanical Polishing) slurries can be categorized into dielectric layer CMP slurries, barrier layer CMP slurries, copper CMP slurries, silicon CMP slurries, ...

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  • 2025年12月5日
    Catégories : Application

    Smart Watch Acier inoxydable Couvercle arrière Polissage

    Polishing the stainless steel back cover of a smart watch requires both the rough and fine polishing stages of the CMP process. Using Jizhi Electronics’ polishing slurry and pads in ...

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  • 2025年12月5日
    Catégories : Application

    Polissage miroir de céramiques d'alumine avec de la boue de polissage

    Achieving a mirror finish on alumina ceramic sheets presents significant challenges for two main reasons: first, the high hardness of alumina makes it difficult to grind; second, its strong light-absorbing ...

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  • 2025年12月5日
    Catégories : Application

    CMP pour le polissage rapide des surfaces en acier inoxydable

    Traditional processes for achieving high-quality mirror finishes on stainless steel primarily employ polishing technologies such as electrochemical polishing, chemical polishing, and mechanical polishing. With increasing demands for the surface quality ...

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