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semiconductorについて

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研磨スラリーによるアルミナセラミックスの鏡面研磨

Achieving a mirror finish on alumina ceramic sheets presents significant challenges for two main reasons: first, the high hardness of alumina makes it difficult to grind; second, its strong light-absorbing ...

|2025-12-16T11:46:18+08:002025年12月5日|申し込み|Mirror Polishing of Alumina Ceramics with Polishing Slurry はコメントを受け付けていません

ステンレス鋼表面の高速研磨用CMP

Traditional processes for achieving high-quality mirror finishes on stainless steel primarily employ polishing technologies such as electrochemical polishing, chemical polishing, and mechanical polishing. With increasing demands for the surface quality ...

|2025-12-16T11:46:32+08:002025年12月5日|申し込み|CMP for Rapid Polishing of Stainless Steel Surfaces はコメントを受け付けていません

CMP技術紹介

CMP(Chemical Mechanical Polishing:化学的機械研磨)は現在、近代的な工業製造において、ワークピースの表面研磨や、集積回路製造におけるウェーハ表面のグローバルな平坦化に使用されている唯一の技術である。CMP ...

|2025-12-18T10:19:52+08:002025年12月5日|ソリューション|Introduction to CMP Technology はコメントを受け付けていません
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